Высоковакуумное технологическое оборудование серии Delta-IR10 предназначено для ионно-плазменной очистки оптических поверхностей и нанесения углеродных алмазоподобных (DLC) и просветляющих покрытий методом плазмохимического осаждения (PECVD) в производстве прецизионных оптических деталей.

Травление деталей производится в диодной схеме емкостного реактора с возможностью варьирования энергии и состава атомов, бомбардирующих поверхность. Возможна обработка в восстановительной, нейтральной и в окислительной среде, удаляя или восстанавливая оксидный слой на поверхности подложек. Для увеличения равномерности травления при обработке обеспечивается вращение и охлаждение технологического столика.

Равномерная подача углеродсодержащего газа в зону осаждения совместно с использованием пространственно-разнесенной откачки камеры позволяет существенно повысить равномерность осаждения покрытий. Контроль нанесения покрытия ведется в автоматическом режиме по отражению от свидетеля или плоской детали, расположенных в центре столика.